上海新阳生产什么时候？
据说是4月份，但是有业内人士说因为一些技术问题导致延期，具体不清楚 作为光刻行业从业者，简单说说上海新阳这家公司，之前一直没有独立融资，是江苏南大光电的控股子公司，主要从事的是集成电路制造领域的光刻材料，主要有光掩膜版和光刻胶两大部分。
光掩膜版主要是给IC制造做芯片用的，分为干法和湿法两种，现在在产的有2.5D/3D IC制造用的TSV（槽型）和菲涅尔透镜。还有研发中的IC制造DSOI用的高分辨率等离子激元阵列光栅（简称PD-LOGA）。
光刻胶方面主要有13.5nm EUV曝光用的光刻胶以及低端IC LDI用的光刻胶。在上海建有5000平米的研究所，有干法、湿法工艺线及EUV检测系统，在无锡建有2万平米的工厂，主要做光掩膜版的生产和加工。
关于EUV光源，公司是与荷兰ASML公司合作开发的，具有专利； 关于PD-LGOA，国内目前只有上海新阳拥有完整的技术，并且做了中试。
关于13.5nm光刻胶，也是国内唯一一家通过工程样品认证的光刻材料企业 中国集成电路产业目前处于什么阶段？ 我国半导体产业整体落后国外至少5－8代左右，不过个别领域比如刻蚀，清洗设备等领域有一些突破，芯片制程方面，虽然北京集创微电子已经实现13.5nm EUV量产，但是真正用到商业IC制造上的国产光刻材料还比较少，国内IC制造业完全依赖进口。